可调YALOX防护涂层抵抗血浆损伤

在半导体行业，原子层沉积（ALD）启用了针对等离子体蚀刻的腐蚀保护解决方案。当前的晶圆制造工艺流包括几个步骤，需要等离子体蚀刻。使用如此强大的蚀刻化学物质的不可避免的后果是将工具本身蚀刻。可以通过将耐腐蚀涂层涂在蚀刻工具中来最大程度地减少等离子体损伤来管理此工具损坏。

我们的方法是结合高度蚀刻的Y₂o₃具有更强大的ALD过程的ALD过程，例如Al₂o₃或Zro₂。已经表明，从y那里获得大部分好处₂o₃在复合氧化物中，其摩尔浓度可能小于一半。

观看10分钟的网络研讨会，我们证明了高性能的ALD腐蚀屏障沉积以Al的速度和便利性₂o₃Y的过程和耐用性₂o₃可以通过仔细控制膜组成来实现，并且该过程可将其转移到工业规模沉积室。