Tera Print

在TERA-PRINT，我们将台式机纳米制造工具和技术商业化，这些工具和技术使不同背景的研究人员从未有过以前的纳米制剂。TERA-FAB E系列是一种多功能光刻技术，能够实时遍历纳米，微观和宏观科目，同时还具有数字光掩膜平台（无需物理掩盖）以及与柔软和硬材料的广泛兼容性。亚博网站下载TERA-FAB技术已经在推进用户在关键领域的研究，包括微流体，生物和电化学感测，微阵列图案和设备原型制作。

启用技术|梁笔版光刻

Beam Pen光刻（BPL）是Northwestern University Chad Mirkin博士发明的一种无悬臂扫描探针光刻技术。这种方法将高级紫外线投影系统与专有的BPL阵列结合在一起，可允许多达100,000个独立寻址的探针进行无面膜光刻。BPL阵列最终控制可达到的特征大小，该特征尺寸的范围从低于250 nm到1 µm。TERA-FAB也可以在无掩模的投影模式（无BPL阵列）中用于需要特征分辨率> 1.5 µm的应用，例如微流体模具或MEMS设备。