2007年7月17日
现在是时候对晶体管进行巨大变化了 - 将新材料和流程整合到其门结构中，以使芯片更快，更强大，从而使摩尔的法律得以继续。亚博网站下载Applied 亚博网站下载Materials，Inc。今天发布了这些技术，以帮助客户实现这一目标 - 在大量生产中建造高K/金属门（HK/MG）结构的全面特征的过程组合。
从逻辑芯片的45nm节点开始，晶体管非常小，以至于传统的栅极材料不再有效，从而使电流泄漏过多，从而加热了晶体管并消耗过多的功率。亚博网站下载HK/mg结构可提供> 100倍的门泄漏和明显更快的开关速度。为了说明节省能源，如果2006年运送的所有微芯片都使用了香港/毫克技术，那么一年中节省的总功率（1）可以为超过450万套房屋提供电力。但是，使用新的HK/MG材料使晶体管“酷亚博网站下载”再次仅解决问题的一部分。真正的挑战是将这些HK/MG材料集成到设备中，以创建具有原子工程接口的优化门结构，并具有量制亚博网站下载造所需的性能。
“多年来，我们的客户将整合新的门材料一直视为扩展最大的障碍。亚博网站下载我们希望通过提供集成提供的HK/MG技术来帮助他们最大程度地降低这种风险，从而更快地进行过渡。” Applied的Silicon Systems Group高级副总裁兼总经理Tom St. Dennis说。“ Applied具有悠久的历史，可以帮助客户将新材料整合到其流程流中，最近一次过渡到低k二元。亚博网站下载由于我们拥有上游和下游技术，因此我们可以优化流程顺序，并帮助客户成功整合HK/MG技术以制造其最先进的晶体管。”
制造香港/毫克结构的方法有几种方法，并且应用具有坚实的系统，可以支持客户的不同方法。这些完全表征的过程经过集成测试，以减少客户的时间以实现完全优化的HK/mg结构。Applied不仅仅提供高K膜，还可以在一个结合了四个关键过程（高K沉积，氧化，硝化和退火的单个Centura®平台上提供集成的介电堆栈解决方案）。对于具有挑战性的金属门堆栈，使用ALD（2）和PVD（3）技术来解决各种客户设计的技术，在其Endura®平台上提供了多年的金属沉积技术领导力构建。Applied的新创新高温蚀刻技术提供了HK/mg堆栈蚀刻所需的关键轮廓。具有25nm的缺陷灵敏度和自动化FIB（4），Applied的缺陷检查，审查和分析系统加速了HK/MG结构的关键缺陷和过程学习。
Applied在其Maydan Technology Center是世界上最先进的半导体工艺实验室之一的Apply Threct threcture Teartial。使用公司的系统和技术，应用工程师成功证明并测试了逻辑和内存（电荷陷阱闪光灯）设备的HK/MG结构，直到22nm Design节点。这些结构可以使客户从下一代流程中始终开始。有关Applied HK/MG解决方案的详细信息，请访问www.applied亚博网站下载materials.com/highk_metalgate。
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