含二元半导体新标准

国家标准技术学院下夏发布新标准(北半球) 与半导体速度测量相关

udium用于诱发硅板压力,使电子加速移动,并继而提高计算机和其他设备操作速度

交互参考素材用于帮助人校准工具以确定硅薄膜中的量测量标准与已知标准比较,帮助制造商优化组成

新的标准将由一套薄膜组成,由行业参与者提供并配有NIST特征

亚博网站下载交互标准优于传统标准参考材料,即可快速提供,即亚博网站下载确定需求后一至二年,标准参考材料约5年

新的标准还声称精确到约1%,而目前可用技术只要求精度5%

更多资料半导体中键.

告诉我们你的想法

是否有审查更新或任何想添加到新闻故事中

留下反馈
批注类型
提交