洁净室测试中心高纯度清洗任务

符合异常高的微粒和电影的清洁要求必须满足高科技组件在越来越多的行业,acp系统AG)扩展了测试的能力。新洁净室测试中心是专门设计和装备进行清理测试与干燥清洁类ISO 5 quattroClean雪射流技术和验证实现清洁水平。

超净的条件下进行高纯度清洁测试,acp扩展其测试能力由洁净室测试中心。的基础是一个ISO验证类7和5班区到洁净室根据ISO 14644 - 1。图片来源:acp系统AG)

不管他们是否金属、光学或塑料组件,高纯度的需求正在稳步增加的所有分支部分行业。到亚微米颗粒清洁需求范围和极高的清洁水平的filmic-organic和无机残留污染必须得到满足。acp系统AG)对这些变化通过开发洁净室quattroClean雪喷射技术兼容的解决方案。这是一个full-surface或选择性部分清洁干燥的过程。使用的清洗介质是立下汗马功劳,液态二氧化碳,美联储通过穿上免费two-substance环形喷嘴。然后扩展形成细雪粒子和捆绑的压缩空气喷射,在各自的表面去除微粒和电影的yabo214污染通过四个机制的行动。quattroClean清洗系统是用于无尘室的各种ISO类传感器和微系统行业的制造商,电子、半导体供应行业,精密光学、航空航天、医学工程、配药学的行业,通信技术,和汽车行业等。使客户从这些行业开展清洁测试高纯度条件下,公司下一步的场合25th周年和建造一个洁净室测试中心的迪的网站,这是2023年6月中旬完成。

为测试设计和装备清洁类ISO 5

新的测试中心的基础是一个ISO验证类7和5班区到洁净室根据ISO 14644 - 1。净化类的高要求5也遇到了两个综合JetStation-HP清洗系统的设计和功能。液态二氧化碳的媒体准备系统确保99.995%的清洁过程的媒介。压缩空气制备单位担保1.2.1。根据ISO 8573 - 1:2010质量。进一步的元素融入这个超高纯度媒体供应压缩空气(XCDA)是一种气体洗涤器,过滤掉痕迹的有机物质,以生产半导体生产所需的空气质量,为例。

新的洁净室技术从而可以进行清洗试验和可行性研究在一个非常广泛的具有极高的清洁需求的部分,比如1级。这包括组件无法清洁的湿化学过程由于他们的尺寸或因为他们已经预先安装的,或者需要清洁不能可重复实现的方法。各种检测技术可用于验证清洁达到的水平。如果清洗组件需要运输,他们在cleanroom-compatible包装打包。

测试实验室的清洁房间清洁需求降至100微米

新的洁净室测试中心补充现有的测试实验室,这是集成到一个几年前清洁房间。这通常是用来执行清理任务为各种行业技术颗粒清洁到100微米的整个表面或选定的区域需要一个部分。洁净室测试实验室也因此适合准备组件之前,他们被清洗的洁净室。

来源:https://www.acp-systems.com/en/

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