从Tofwerk2022年11月10日由艾米丽·麦吉(Emily Magee)审查
Tofwerk很高兴能在半导体制造中发布Clearfab解决方案,以在欧罗巴半导体制造中发行纯度保证。这项首要活动是与对将对创新感兴趣的行业专业人士共享我们敏感的基于质谱的技术的理想平台。为下一个半导体行业增长提供动力。
图片来源:Tofwerk
在我们的B1467展位与我们会面,讨论有关这些关键用例的Clearfab解决方案,包括:
- FOUP监视
- 多端口空气系统
- 移动监控
- 沉积,蚀刻和光刻监测
用于AMC监测和过程气体分析的超敏感的实时化学分析
半导体制造需要物质纯度和无污染物环境,以确保高质量的产品并最大程度地减少产量损失。Clearfab AMC和处理解决方案利用了Tofwerk飞行时间质谱的速度和灵敏度,以满足苛刻的和不同的FAB应用。
Clearfab AMC监视
ClearFab AMC解决方案使用新型快速开关的飞行时间化学电离质谱法提供了所有关键AMC类别的全面覆盖范围。TOFWERK的AMC解决方案对AMC监测具有最高的灵敏度,提供超快速的测量速度(1 Hz)和可自定义的,可自定义的未来的解决方案,能够解决整个FAB中的几种不同应用。
ClearFab AMC解决方案是确保Fab中设备和系统增强产量的理想工具。了解更多
Clearfab工艺气体分析
ClearFAB过程解决方案是完全集成的过程表征和监视系统。同时检测到使用电子电离时间质谱,所有前体,副产物和痕量物种都可以指导立即的过程控制作用,并为分析和过程智能提供了沉积,蚀刻和光刻学的智能。独特的位置以满足具有挑战性的过程要求,
ClearFAB工艺解决方案实时提供了快速,无侵入性的过程偏差的检测。了解更多
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