曾经被认为是科幻小说的电子设备，由于微电子的进步（也称为芯片或微芯片）已成为现实亚博老虎机网登录。
在过去的25年中，CXRO科学家和工程师与微电子行业领导者并肩作战，以应对发展EUV光刻所需的重大技术进步。图片来源：玛丽莲·萨金特/伯克利实验室。
芯片包含称为晶体管的微型零件 - 微小的硅开关将处理并将数据存储为零和一个计算机的二进制语言。芯片包含的晶体管越多，它可以处理数据越快。当前可用的最先进的芯片大约是指甲的大小，包括超过1000亿的晶体管。
自1960年代以来，芯片部门依赖于光刻 - 这种方法使用光线在硅上打印微小图案到大规模制造微芯片。多年来，光刻的进展促进了越来越小的波长的应用，因此可以制造较小的晶体管。
在芯片创新的最初几年中，光刻工具首先使用可见光，波长小至400 nm，然后使用紫外线（UV）光（小至248 nm）和深紫外光（193 nm）。
目前，芯片行业已经进入了一个新时代：极端紫外线光刻（EUVL），这是一种突破性的方法，使用短波长仅为13.5 nm，比紫外线小约20倍，比可见光小40倍。
This short EUV wavelength allows the microelectronics sector to print transistors and microchip circuits that are tens of thousands of times thinner in comparison to a strand of human hair – and buy more time for Moore’s Law, which estimated in 1965 that the number of transistors positioned on a chip would grow two times every 2 years until the technology reached its boundaries in performance and miniaturization.
当您谈论半导体制造的未来时，我们正在谈论扩展摩尔定律 - 这一直是我们数十年来的主要重点。
帕特里克·纳洛（Patrick Naulleau），劳伦斯·伯克利国家实验室（Berkeley Lab）能源部X射线光学中心主任
帕特里克·纳洛（Patrick Naulleau）还是围绕EUVL的复杂科学的领先专业人士。亚博老虎机网登录
2019年，EUV光刻被商业化，但花了数年的研究才能达到这一里程碑。由于CXRO的出色功能，其中很多是可行的。在过去的25年中，CXRO研究人员和工程师与微电子行业领导者合作，以处理进步EUVL所需的重大技术进步。
根据纳洛（Naulleau）的说法，EUVL中的小波长非常接近X射线光，因此需要新的仪器，这些仪器远远超过了早期光刻的能力，后者使用了紫外光和可见光的较长且能量较低的波长。
（在电磁范围内，系统科学家用来根据其等效波长对所有光范围进行分类，X射线光范围为0.01至10 nm；极端的紫外线或EUV光范围为10 nm；从124到124到紫外线。400 nm，纳洛（Naulleau）澄清。）
很少有分析师指出，摩尔法律的终结即将结束。但是，由于CXRO促进的材料和仪器的进步，当代芯片可能还要几年才能改进其范围以进行改进。亚博网站下载
在伯克利实验室X射线光学中心的这个干净房间中，研究人员使用极端紫外线光刻（EUVL）来推动下一代超小型计算机芯片的创建。人头发为50–100微米。来自EUVL系统的每个图像都是200 x 30微米，并且非常丰富。视频来源：EUV材料研究中心/伯克利亚博网站下载实验室。
资源：https://lbl.gov