基本化学物质和原材料中杂质的超曲拉斯分析亚博网站下载
图片来源：Metrohm中东
诸如电镀之类的表面饰面是设计具有专用物理，化学和电子特性的产品的最重要的工业过程之一。溶质，溶剂，催化剂和电解浴的纯度和组成是实现所需特性，防止因失衡或污染的损害和自卑的关键要求。即使在超级级别上，杂质也可能对半导体行业的集成电路和最终产品的电气产生有害影响。因此，半导体设备和国际材料（半导体）规定了许多基本app亚博体育化学物质和原材亚博网站下载料杂质水平的低/L范围。离子色谱法（IC）是即使在Ng/L范围内，也是分析离子杂质的理想方法。
诸如氟化物，氯化物，溴化物，亚硝酸盐，硝酸盐，磷酸盐或硫酸盐等杂质可能会改变浴的特性。因此，电镀性能受损或半导体甚至损坏。用于工艺溶液（例如蚀刻，电镀或清洁溶亚博网站下载液）所使用的化学物质和原材料几乎没有这种离子杂质。IC与内联矩阵消除和内联浓缩结合在一起，即使在超轨道中也是确定此类杂质的理想选择。
内联矩阵消除可去除未充电或相对充满电的基质组件（例如，过氧化氢），从而减少样品制备并改善色谱柱寿命。与智能内联浓缩相结合的附加组合增加了测量灵敏度，从而可以分析Ng/L范围内的杂质。
示例应用程序包括：
- 在超纯水中追踪阴离子和阳离子分析
- 在酸中追踪阴离子分析
- 四甲基铵氢氧化物（TMAH）中的氯化物和硫酸盐
- 过氧化氢或有机溶剂（例如异丙醇）中的阴离子杂质
该技术的鲁棒性允许处理几乎所有过程解决方案，例如蚀刻，提取或冲洗解决方案。
访问Metrohm下载申请注释