Brooks Instrument是高级流动，压力，真空和蒸气输送解决方案的世界领导者，将于11月16日至19日在德国慕尼黑的Semicon Europa举办其新的基于GP200 GP200 GP200 GP200级别的质量流量控制器（P-MFC）。该公司将在B1572展览中展出。
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新的GP200系列是该行业的第一个完全不敏感的，基于压力的质量流量控制器，专为半导体制造中的高级蚀刻和化学蒸气沉积过程而设计。
提供≤±1％的工艺气体准确性和≤±0.15％S.P.可重复性，超快GP200系列符合TSV，MEMS和高通量连续等离子体过程的高纵横比蚀刻过程的关键要求。
GP200具有克服常规P-MFC的局限性的专利架构，旨在保持低蒸气压力和高压气体的准确流量到从高于大气压力高的高真空运行的过程中。相比之下，传统的P-MFC需要高供应压力和低出口压力或迅速降解的性能。通过提供比常规P-MFC的灵活性更大的灵活性，GP200系列是第一个基于通用压力的解决方案，也是传统P-MFC和热MFC的升级。
GP200的极端压力不敏感性和零泄漏阀（ZLV）技术使设计工程师能够通过消除对使用点的压力调节器和传感器的需求来降低燃气面板的复杂性，尺寸和成本。
除了其GP200系列P-MFC外，Brooks还将展示其他关键产品，例如真空和压力测量传感器，用于晶圆工艺设备和Fab气体分布的仪表和仪器。app亚博体育
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有关GP200系列P-MFC的更多信息，包括规格和视频，请访问Experience.brooksinstrument.com/pressure-lase-mass-flow-controller-gp200。
Brooks仪器基于压力的质量流控制器 - 操作理论
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