atatonarp是一家为半导体、医疗保健和制药行业提供分子传感和诊断产品的领先制造商，今天宣布了Aston，一个集成了等离子体电离源的创新的原位半导体计量平台。
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阿斯顿是半导体生产过程计量技术的重大发展，可实现原位分子过程控制，并允许现有晶圆厂更有效地运行，推动更高的产量。从半导体生产的基础上，Aston是一个强大的平台，可以取代多种传统工具，并在一系列综合应用中提供前所未有的控制水平，包括光刻、电介质和导电蚀刻和沉积、腔室清洁、腔室匹配和消除。
“通过Aston，我们看到在某些应用中，单元处理吞吐量增加了40%以上，这是一个很大的改进。对于一个典型的晶圆厂来说，即使整体生产能力提高1%，每年的生产成本也会增加数千万美元。”atatonarp的首席执行官、首席技术官和创始人普拉卡什·默蒂说。
“与安装新的生产设备需要一年的时间相比，将Aston改装到现有的生产工艺工具可以在6到8周内实现更大的产量，”app亚博体育没吃。“这将在很大程度上帮助制造商提高生产水平，并有助于解决目前半导体工厂产能不足的问题。”
快速、可操作的端点检测(EPD)是运行半导体工具和晶圆厂最有效的方法。到目前为止，EPD在许多工艺步骤中都无法部署，因为所需的现场传感器无法经受严酷的工艺或腔室清洗化学品的考验，或者可能会受到凝析油沉积的堵塞。历史上，晶圆厂被迫使用一个固定的时间，以确保工艺完成。相反，Aston通过准确检测工艺何时结束(包括腔室清洗)来优化生产，这可以将所需的清洗时间减少80%。
阿斯顿耐腐蚀性气体和气体污染物冷凝物。它比现有的解决方案更强大，具有独立的双电离源-经典的电子冲击电离源和无丝等离子体电离器-在半导体生产中遇到的恶劣条件下可靠工作。这使得Aston可以在现场使用，在要求苛刻的环境中使用，传统的电子离子发生器会很快腐蚀和失效。
与传统的质量分析仪相比，Aston提供了服务事件之间的间隔时间，最长可达100倍。它包括自清洗能力，消除了在某些工艺中存在的冷凝物沉积导致的积聚。
因为阿斯顿能产生自己的等离子体，所以不管有没有等离子体，它都能工作。这比光学发射光谱计量技术具有明显的优势，因为光学发射光谱计量技术需要等离子体源来操作，使得Aston成为ALD和某些可能使用弱、脉冲或不使用等离子体处理的金属沉积过程的理想选择。
阿斯顿还通过提供量化的、可操作的、实时的数据，为最苛刻的流程应用提供了强大的机器学习能力，从而提高了流程的一致性。这不仅提高了生产线和产品的产量，还得益于实时数据统计分析和工艺室管理的高精度、灵敏度和重复性。
Aston主要用于化学气相沉积(CVD)和蚀刻应用，这两种应用的年增长率都超过了13%。光谱仪可以在组装过程中安装在新的工艺室中，也可以改装到已经在运行的现有工艺室中。
阿斯顿还可以与ATI韩国开发的智能压力控制器Psi一起使用。经过一个全面的、持续数月的技术可行性评估后，该组合解决方案于近期推出购买的三星用于高级过程控制应用。
阿斯顿现在可以评估和订购，通过直接购买或阿那普全球合作伙伴网络．
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