TESCAN Essence™EBL Kit具有一个软件模块，从Essence™显微镜控制软件中控制电子束光刻(EBL)过程，以实现微和纳米尺度结构和器件的高效原型。
TESCAN ORSAY HOLDING a.s.宣布他们的精华的释放™EBL套件，一个完全集成的专用解决方案，为TESCAN SEM和FIB-SEM仪器增加了电子束光刻功能。与TESCAN公司的快速静电光束消隐器Essence一起工作™EBL Kit为多用户研究实验室提供了一个途径，以满足微和纳米尺度结构和器件的原型需求，同时也提供了扫描电镜和FIB-SEM的成像和分析能力。
用电子束电阻法将测试图样转移到样品上的电子束电阻上
电子束光刻是一种利用聚焦电子束在覆盖有电子敏感膜(抗蚀剂)的表面上绘制图案的技术。这种技术通常用于在各种基底上制备具有特定形状、尺寸和材料组成的微纳米结构的原型，如传感器、光子学、等离子体学、自旋电子学、MEMS、微流体和细胞生长表面。
在大学或其他机构的小型科学研究小组中，仪器通常由多个小组共享，因此在购买新设备时，多功能性、易用性和可靠性是主要考虑因素。app亚博体育通过扩展SEM或FIB-SEM的功能，包括中级电子束光刻应用，TESCAN SEM和FIB-SEM仪器能够满足表征和原型的需要。
Tomáš Šamořil, ToF-SIMS NanoPrototyping特殊应用产品经理
将电子束光刻添加到SEM或FIB-SEM中，允许研究人员在完成光刻过程后利用任一平台的分析能力来验证结构、尺寸或材料组成。EBL与聚焦离子束(FIB)和气体注入系统(GIS)技术提供的精确材料去除相结合，已被证明是光子学、光学、等离子体学、磁性、生物学和电子学领域的微和纳米器件快速成型的强大组合。
TESCAN本质™EBL Kit包含一个与TESCAN完全集成的软件模块
本质™显微镜控制软件，并使用开源的第三方图形编辑器KLayout来执行所有所需的光刻步骤。这使得操作简单，并简化了混合技术设计过程，而无需复杂的数据处理。
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