Picoson的原子层沉积(ALD)薄膜阻挡涂层技术为消除有害工艺气体六氟化硫(SF)的使用提供了解决方案6.)和三氟化氮(NF3.).
在当前的化学气相沉积(CVD)涂层方法中,需要生长相对较厚的薄膜,以获得所需的性能水平,以达到防潮、防腐、钝化或绝缘应用等方面的要求。由于涂层设备壁上的快速成膜,必须定期清理沉积室中的残膜。这通常通过SF的腔室清洁过程完成app亚博体育6.或NF3.等离子体。
旧金山6.是有史以来最强的温室气体,全球变暖潜力是二氧化碳的2.26万倍2.(NF3.,系数为17200),并在大气中至少停留1000年。旧金山6.仅2017年欧盟排放的温室气体效应就相当于140万辆汽车。因此,这些气体的使用受到不断的审查和加强的管制。
通过切换到Picoson的ALD纳米层压板屏障技术,可以通过极薄、无针孔的薄膜获得无与伦比的屏障性能。这也消除了在每几次工艺运行后清洁沉积设备的需要。在典型的生产使用中,Picoson的ALD反应室每3–6个月仅清洁一次简单的机械喷砂代替氟基等离子处理就足够了。app亚博体育
“Picoson希望利用我们的ALD技术实现可持续发展的未来。通过一切可能的手段应对气候变化需要创新行业和解决方案提供商之间的合作。通过使用我们的超薄ALD-fi替代厚涂层,采用环保、能源和资源密集型方法制造lm烟囱,显著节省材料和成本,设备清洁时不需要有害气体,”app亚博体育Picosun Group副首席执行长科斯塔莫(Juhana Kostamo)总结道。
来源:www.picosun.com