关于外来硅相稳定性的新观察结果表明，某些类型的SI稳定在比以前想象的要高得多的温度。由于高温处理在光电设备的开发中很常见，因此这对如何在未来的太阳能材料中使用这些新型硅具有积极影响。亚博网站下载
澳大利亚国立大学的研究人员在发表在《应用物理学杂志》上的一篇论文中，与墨尔本大学，橡树岭国家实验室和拉古纳大学合作，发现通过凹痕实现的亚稳态硅国家保持稳定，最高可达450°C。该研究已经阐明了硅的这些压痕形成的阶段如何通过诸如R8-SI等亚稳态结构演变为HD-SI和SI-XIII等纳米晶相。
Sherman Wong进行了研究澳大利亚国立大学（现在是RMIT大学的研究人员）的研究，他说：“这项工作使我们能够显示出硅样本的拉曼光谱的差异，这是温度的函数，这使我们能够看到当不同的阶段开始出现或消失时。我们对何时开始出现Si-XIII特别感兴趣，因为这是一个全新的阶段，以及在HD-SI消失之前需要去的温度高。令人兴奋的是，发现HD-SI在450°C下稳定，因为现代SI设备在此温度下进行了处理。”
这项工作的关键是对三种不同退火方法的比较：炉子，激光和热阶段的退火。研究人员将其新的，更准确的温度读数归因于硅相变的部分，部分原因是其温度测量的准确性提高，并且可以更好地理解样品中的变薄行为。
对于热级退火，使用Linkam THMS600温度控制阶段来精确控制氮环境中的退火温度。温度阶段还用于在一系列温度下进行原位拉曼显微镜。
来源：http://www.linkam.co.uk