PicoSun Group是一种用于工业生产的先进ALD（原子层沉积）薄膜涂层技术的领先供应商，报告了固态3D薄膜电池的保形ALD涂层的优异结果。
在便携式和可穿戴电子产品中越来越需要固态薄膜电池，例如智能手机，平板电脑，智能手表，自主传感器以及植入医疗设备。这些电池必须与高能密度组合小巧，紧凑的尺寸，这就是下一步将远离平面电池几何形状到三维的原因。在3D薄膜电池中，纳米结构，波纹的高纵横比（HAR）结构乘以主动表面积，从而乘以电池的电荷存储容量。
需要先进的制造方法来制造这些结构内部的功能层，如电极和固体电解质。ALD能够在HARs内部创造最高质量的保形材料层，甚至高达1:3000，因此它显示出3D薄膜电池制造的巨大潜力。Picosun的高宽高比ALD已经在各种半导体和MEMS工业应用中得到应用，现在已经成功地用于制造固态3D薄膜电池电极。通过优化工艺参数的标准PICOSUN™ALD反应器配置，已经取得了优异的结果，但对于更具挑战性的HAR涂层需求，PICOSUN的Picoflow™扩散增强专利技术是理想的。
“便携式和可穿戴电子产品的迅速普及，创造了对小型和嵌入式能源的需求，为这些设备提供动力。固态3D薄膜电池是这方面的一个强有力的候选人，我们在Picosun很高兴向制造商介绍我们的ALD解决方案。值得注意的是，即使使用我们的基本ALD，我们也能够在具有挑战性的HAR结构中创建具有最高同构性的功能层，而且我们的方法很容易扩展到高产量的工业生产。而且，当这些结构在纳米尺度上变得更加复杂时，我们的Picoflow™技术能够保证高质量的沉积结果，并具有行业公认的可靠性，”Picosun集团董事总经理Juhana Kostamo先生总结道。