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爱德华兹推出了新的iXH Mk2干式泵,用于超苛刻的半导体工艺

Edwards利用了100年的技术创新,通过为严厉流程能力,可靠性和较低的所有权进行新标准来实现新的标准。

英国西苏塞克斯伯格斯希尔(2019年3月14日)-爱德华兹公司宣布推出新型iXH Mk2系列,这是一种高效、低功率、超苛刻的干泵,满足今天的半导体工艺要求,并解决明天的问题新兴应用的挑战在半导体、显示器、LED和太阳能光伏的制造过程中。爱德华兹将于3月20日至22日在上海新国际展览中心举行的SEMICON®China(展位1309 FPD China)上展示新的iXH Mk2解决方案。

新iXH Mk2干式泵的使用寿命比前几代泵的使用寿命更长。它还可以显著提高电力效率,”爱德华兹高级产品经理Al Brightman说。“利用100年的技术创新,我们重新设定了苛刻的工艺能力、可靠性和低拥有成本的标准。iXH减少了半导体制造中使用的一些最严酷的过程对环境的影响。”

通过展台停止,了解IXH MK2如何解决高k,低k,Sacvd,LPCVD,ALD,TCO,GaN和EPI的新兴过程挑战。有关Edwards的更多信息可以找到www.edwardsvacuum.com

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    爱德华真空有限公司(2019年3月15日)。爱德华兹推出了新的iXH Mk2干式泵,用于超苛刻的半导体工艺。AZoM。于2021年10月08日从//www.washintong.com/news.aspx?newsID=50693检索。

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    爱德华兹真空有限公司。“爱德华兹推出了用于超苛刻半导体工艺的新型iXH Mk2干泵”。AZoM.10月20日2021年。

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    爱德华兹真空有限公司。“爱德华兹推出了用于超苛刻半导体工艺的新型iXH Mk2干泵”。AZoM。//www.washintong.com/news.aspx?newsID=50693。(2021年10月8日生效)。

  • 哈佛

    Edwards Vacuum Ltd. 2019。爱德华兹推出了新的iXH Mk2干式泵,用于超苛刻的半导体工艺.AZoM, viewed september 21, //www.washintong.com/news.aspx?newsID=50693。

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