图片来源:Hiden Analytical
Hiden Analytical提供一系列对原子层沉积(ALD)的过程和后处理阶段和评估具有特殊意义的质谱仪产品。
从超高真空到毫巴的压力范围,从过程中残留气体分析仪到HPR-30ALD差压泵浦探头的压力范围,系统可用于监测气体物种。
等离子体辅助过程诊断是由EQP系列等离子体探针直接测量正面和负处理离子的分子量和能量以及与中性和自由基的丰度。能量范围选项扩展到+/- 1000eV,质量范围选项为1000 AMU。
二次离子质谱仪(SIMS)可用于表层质量的直接后处理验证,提供表层和深度剖面物种组成数据。提供氧、氩、铯离子枪,离子束光斑大小可降至20微米。