贴入### 新闻发布

新建TriboLab CMP提供高成本效益化化化学机械Wafer波兰进程

图像感想分解:Bruker Nano表层分解

布吕克纳米表层分解今天宣布引入Tribolab进程和材料特征系统,它为开发经证明强健UMTTibolabTM机械测试平台上的化学机械打扫进程提供独特的特征描述能力新建TriboLab CMP系统是市场上唯一能提供广度抛光压力(0.05-50psi)、速度(1至500rm)、摩擦、声学排放和表面温度测量以准确完整描述CMP进程和耗材的工具

高端半导体设备编译比以往更加关键亚博网站下载业界一直请求一种方法有效描述详细过程和耗材交互作用,app亚博体育Robert Rhoades,CTO intrepix,向CMP行业提供设备与线程处理服务的主要提供者并协助启动Tribolab MPL平台并加新系统能力后, 我们准备提供可靠的研发解决方案测试和定性平台、滑动器、机理和流程参数间复杂交互作用,

Bruker提供工具十多年来应用此程序,我们很高兴介绍Tribolab MPLTriboLab CMP已显示客户网站有超能力开发半导体行业中最富挑战性CMP应用市场唯一能提供广打压速度范围、声学排放数据、摩擦和表面温度的工具,以准确完整地描述CMP进程和耗材

James Earle,Bruker副总裁兼总经理

引用

请求使用下列格式之一在论文、论文或报表中引用此文章

  • APA系统

    布鲁克南诺表层2017年6月28日新建TriboLab CMP提供化学机械Wafer波兰进程成本效益化AZOM2023年1月27日检索网站s://www.washintong.com/news.aspx?newsID=47868

  • yl

    布鲁克南诺表层新建Tribolab CMP提供高成本效益化化工Wafer波兰进程AZOM.2023年1月27日 .

  • 芝加哥

    布鲁克南诺表层新建Tribolab CMP提供高成本效益化化工Wafer波兰进程AZOM//www.washintong.com/news.aspx?newsID=47868.2023年1月27号访问

  • 哈佛

    布鲁克南诺表层2017年新建TriboLab CMP提供高成本效益化化化学机械Wafer波兰进程.AZOM查看2023年1月27日,//www.washintong.com/news.aspx?newsID=47868

告诉我们你的想法

是否有审查更新或任何想添加到新闻故事中

留下反馈
(Logout)
批注类型
提交

更多内容来自Bruker南洋面

查看Brukernao表层所有内容