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使用拉曼计量学的二维MOS2制造的新的改进过程

等离子体技术的科学家研究了沉积二维二维层（2D）层的过程（MOS2）使用拉曼光谱法证明质量控制。

在一个paper published在IOP物理学杂志D：应用物理学杂志中，我们深入研究使用缺陷激活的拉曼签名，以研究各种过程参数的影响以及提高膜质量。我们还表明，我们的MOS的原子层蚀刻过程2不会在基础层中引起缺陷。

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    牛津仪器等离子技术。（2017年5月1日）。使用拉曼计量学改进了二维MOS2制造的新过程。Azom。于2023年3月9日从//www.washintong.com/news.aspx?newsid=47554检索。

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    牛津仪器等离子技术。“使用拉曼计量学改进了二维MOS2制造的新过程”。Azom。2023年3月9日。。

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    牛津仪器等离子技术。“使用拉曼计量学改进了二维MOS2制造的新过程”。Azom。//www.washintong.com/news.aspx?newsid=47554。（2023年3月9日访问）。

  • 哈佛大学

    牛津仪器等离子技术。2017。使用拉曼计量学的二维MOS2制造的新的改进过程。Azom，2023年3月9日，//www.washintong.com/news.aspx?Newsid=47554。

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