Hiden分析公司正在Pittcon2017年3月5-9日、美国伊利诺伊州芝加哥展出最新实验室气分析器HPR-20系统显示时直接实时分析、量化和控制气压从100mbr至50br
HPR-20轮廓质谱计系统与用户进程相伴并存,并配之以积固软石英直线毛虫状,样本消耗率低至1ml/min和响应时间低至150mm流程接口选项通过广度压力机制分析并适合多种应用领域,包括催解研究、离气分析、溶解物种测量、多流气馈送和流程排流监控(80个单流气流)和流程/热响应研究
系统操作、标定、数据采集和显示完全自动化,完全人工控制可按研究人员的要求选择内分解I/O许可输入外部数据,如温度和权重,以便与质量光谱显示和进程控制函数流程细节输出相融合
详细细节访问speth 1722 Pittcon 2017或联系Hiden分析[email protected]或访问网站www.HidenAnalytical.com.