二级离子质谱学是一种多功能高度敏感技术,从原子层层到剖面分析深度超过100纳米技术使用一束高能离子移离电流获取并识别正次离子和负次离子
隐藏SIMS工作站扩展范围包含基础研究工具通达自动化质量控制应用并配有综合负载锁、样本操作和多镜采样载体四倍SIMS检测器和离子/电子源元素可另外单独获取,以便能够用SIMS技术升级现有表层分析工具UHV完全兼容并用Hiden双模MAXIM质谱仪操作阳性/负离子检测二次离子检测模式和正性数据量化二次中性检测模式质量范围选项扩展至5000amu
精聚焦IG20气源离子枪生成氧气和惰性气离子束,点尺寸小至50微米IG-5C离子枪与Hiden电离子源分析电阴性物种,点尺寸仅为20微米EG-500电子枪提供电荷中和隔热表面
MASOS专业SIMSPC数据系统能完全控制质谱仪、离子枪操作参数和离子光栅面积和扫描速率,并实时提供所得数据ESPLAVEWSIMS成像程序获取、存储并显示数据以2D3D视图能力元素表层地图形式展示
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