反射光学对在晶片上高速印刷芯片图案至关重要。
rigaku创新技术（RIT）作为全球高性能多层光学器件供应商，该公司公布了一系列精密极紫外光刻(EUVL)光学涂料，用于半导体工业晶圆图案印刷的反射镜制造。
RIT的反射光学系统是扫描工具中光学链的关键元件，该工具可将芯片图案以每小时高达125个晶圆的速度打印到晶圆上。
RIT涂层用于下一代光刻技术，将使半导体行业继续减少印刷晶体管的尺寸。这大大增加了可以打印在芯片上的晶体管的数量，从而增加了设备的功能。
此外，芯片耗电更少，这是延长设备电池寿命的关键因素。这些新芯片将被用于继续发展智能手机技术、GPS设备、家庭娱乐和许多其他无线应用。
RIT拥有超过30年的设计和制造世界一流反光光学的经验，是行业内唯一的独立量产制造商。公司是最早投资研发专为EUVL器件设计的多层涂层的公司之一。
这种深度体验底座独特地实现了Rigaku，以满足半导体行业的苛刻精确要求。
在其独特的现有“内联”沉积系统上为多层涂层，RIT最近开发并安装了第二内联高吞吐量系统。新的沉积系统由两个独立的内联系统制成，可以同时沉积4个大型光学器件，直径高达800毫米。
它也可用于在高达1.5米长的基板上实现高精度涂层，用于同步rotron和其他应用，具有复杂的二维D-间距分布图案。新系统还具有非常低的缺陷率。
作为x射线/EUV多层涂料的领导者，Rigaku光学在整个产品系列中具有更好的性能和性能一致性。此外，Rigaku还开发了一种工艺来翻新光学，使其接近最初的性能水平。
改进过程，增加了光学寿命并抵消了污染和辐射损伤的影响，这对于降低生产成本至关重要。
有关此过程和产品的更多信息，请访问www.rigakuoptics.com。