Picosun Oy作为全球工业高质量原子层沉积(ALD)设备和解决方案的领先供应商，其等离子ALD技术不断取得成功。app亚博体育
Picosun的专利PICOPLASMA™源系统现在可以在集群集成上使用，
SEMI S2认证PICOSUN™p系列生产ALD模块。远程,电感
耦合等离子体与高活性自由基扩展ALD过程的选择
允许对敏感基材(如塑料、聚合物或金属)进行无损涂层
衬托。这方面的一个主要例子是首次低温ALD石墨烯沉积在
PICOSUN™等离子ALD工具。
的PICOPLASMA™源系统也适用于导电材料的沉积亚博网站下载
作为纯金属或氮化物，没有短路或粒子形成的风险。它的
优化设计使ALD金属工艺不断取得突破，如
最近报道了使用Picosun的等离子体ALD技术的全晶圆金沉积。
”等离子体辅助ALD工艺，如高质量的贵金属或氮化层
在各种微电子元件的制造中变得必不可少。
特别是在化合物半导体器件和MEMS制造低加工方面
等离子体ALD使之生效的温度通常是至关重要的。非破坏性,radicalbased
处理我们的PICOPLASMA™系统使未来的技术成为可能
全球半导体产业节点，管理类博客Juhana Kostamo总结道
Picosun主任。