Picosun Oy作为工业规模原子层沉积（ALD）薄膜涂层解决方案的领先供应商，现在为其客户提供广泛的新型前体源，特别是为大量制造而设计。
现在推出的Picohot™400源系统是PicoSun高度SoundPort产品系列生产兼容的高温源的最新补充。Picohot™400源系统的ALD阀门可以加热至超过400°C，以便在大剂量最佳的批量加工中高效地输送固体和液体非常低的挥发性化学品。
该源特别适用于金属氯化物前体，确保无颗粒加工，如氧化铪和许多其他材料多达300毫米晶圆。亚博网站下载源容器的巨大内部容量保证了长时间、连续的过程正常运行时间，有效的前驱利用率和最小化的服务中断次数。一个单独的、与生产兼容的清洗阀进一步加快了维护程序。
Picosun的行业规模前体递送解决方案进一步互补的温度，高卷PICOSolution™2000源系统，适用于最多两升液体前体化学品。
Picosun董事总经理Juhana Kostamo先生：
“随着工业ALD应用数量的不断增长，越来越需要扩大前体化学品的选择。一些重要生产过程的前驱物仅以固体或低挥发性液体形式存在。我们在ALD系统设计方面的领先经验，现在使第一个，真正的生产规模的高温源系统设计完全基于ALD方法的要求，并满足半导体行业最严格的质量标准。
“我们很高兴为我们的客户提供这些系统，使他们最先进的新产品实现高产量。”
关于PicoSun.
Picosun提供最先进的ALD薄膜技术，凭借在该领域40年的持续专业知识，通过新颖、尖端的涂层解决方案，实现工业向未来的飞跃。今天，PICOSUN ALD系统在世界各地许多主要行业的日常生产中使用。Picosun总部位于芬兰，在北美、中国、台湾、新加坡和日本设有分支机构，并在全球拥有销售和支持网络。