真空处理是各种化学、冶金和电子程序的一个基本要素,包括吸附法、化学蒸发沉降法、表层蚀刻法和蒸发涂层,操作需求遍及各种压力阶段
上头HMT四重质谱仪单片压力计运行从超高吸附到进程压力mortorr系统以提供进程气监控、吸附背景诊断和泄漏检测
积分双向检测器可高压测量法拉第检测器并减压UHV电子倍增检测器,提供全常规RGA规范,部分压力检测下降2x10E-13orr并加总动态范围超过10年
选择进程模式即时设置高压操作分析参数,系统敏感度优化特定进程压力选择RGA模式自动重置系统优化UHV敏感度,激活系统电子乘法操作并启动超压保护功能
系统特征模板驱动快速启动操作 多扫描模式选项显示数据与流程控制系统整合后可远程扫描控制并输入温度和流程事件级等外部参数多RGA可受以太网通信链路控制
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