XEI Scientific Inc.报告了南加州大学洛杉矶分校明hseih电气工程系的用户组的新出版物。
XEIEVACTRON®软体等离子清洁剂正在USC洛杉矶电气工程系使用。
该论文在《高级材料杂志》上发表了有关等离子体诱导的层解耦的多层MOS2中直接带隙过渡的报道，亚博网站下载以及它们使用XEI的软清洁等离子体清洁系统进行样品制备。
副教授斯蒂芬·克罗宁（Stephen Cronin）的研究团队位于南加州大学洛杉矶的明hseih电气工程系。它们主要集中在纳米尺度上的光谱和电子传输上。Cronin教授的研究涵盖了广泛的主题，包括碳纳米管，石墨烯和其他新型较低尺寸材料的电气和光谱表征。亚博网站下载
自从证亚博网站下载明了3D散装机械去角质以来，近年来，近年来，2D材料（例如石墨烯和少量过渡金属二甲硅烷基（TMDC））吸引了很多研究兴趣。尽管石墨烯具有许多优势，但它不适合光电子领域，在这些领域中，诸如钼二硫化物（MOS2）等TMDC具有明显的优势，这要归功于在可见波长范围内显示有限的带隙。本文描述了温和的氧血浆处理如何在多层MOS2中产生直接的带隙过渡。
作者（Rohan Dhall等人）选择使用XEIEVACTRON®软清洁等离子体清洁剂。在这里，血浆是通过流动房间的空气经过的电极，该电极在200 mtorr时提供了20 W的RF功率。将样品放置在距离血浆源6–10厘米的地方。离子氧原子朝着具有低动能的样品室扩散。将样品暴露于O2血浆约三分钟。
虽然在半导体制造中使用的典型血浆清洁剂使用“溅射”机制运行，在该机构中，样品被带有明显动能的离子轰击，而远程等离子体清洁剂主要依赖于离子化氧的化学反应性去除表面污染物。
分析技术在内的分析技术（PL），拉曼光谱，原子力显微镜（AFM）和电子能量损失光谱（EEL）用于遵循等离子处理对具有不同层数量不同的样品的影响。
作者通过使用易于使用的，可扩展的氧诱导的等离子体过程，成功地证明了在多层MOS2中间接到独立带段转变的产生。直接的间隙半导体显示，由于直接间隙材料中的光有效吸收，PL发射显着增强，这对于在光电设备中的应用至关重要。亚博网站下载
XEI现在使用包括电子显微镜，Fibs和其他真空样品室在内的许多不同环境中在许多不同环境中销售了全球范围的2000多个Evactron系统。每个系统都有5年有限的保修。请访问XEI网站以获取最新详细信息：www.evactron.com。
*adv。母校。2015. doi：10.1002/adma.201405259
关于XEI Scientific，Inc。
XEI Scientific Inc.于1999年发明了EVACTRON DE-CONTAMINATOR，是第一个使用下游清洁过程从电子显微镜中去除碳的血浆清洁剂。专有等离子体来源使用空气生产氧自由基来氧化碳化合物，以通过泵去除。无碳 - vacuum产生了SEMS和其他真空分析仪器的最高质量图像和分析结果。XEI创新还包括独特的RF等离子体发电机，专利的RF电极和易于启动编程的等离子体清洁。所有XEI产品均具有5年有限的保修，并符合CE，NRTL和SEMI-S2安全标准。XEI提供了各种Evactron®净化系统，可满足全球用户需求和> 2000个安装。有关XEI Scientific，Inc。提供的产品和服务的更多信息，请参见www.evactron.com