SIPAR：在Thgot的一个反应堆中的Peald＆ICPECVD的新系统

Sentech提供用于蚀刻和沉积的领先等离子体过程技术设备以及薄膜测量仪器。app亚博体育

我们自豪地在Thgot Conference（Thuringian Surface Days）上为Peald＆Ic Pecvd展示了新的组合系统“ Sipar”。在THGOT上，Sentech展示了其创新的系统“ Sipar”，该系统将PECVD和PEALD技术结合在一个反应​​堆中，用于沉积水分屏障。

SIPAR通过群集系统的创新替代方案来补充广泛的Sentech产品组合。与传统的集群系统相反，这种智能IC PECVD和PEALD组合为行业和研发的需求提供了一种经济有效的解决方案。

结合了Sentech Peald的优势，具有出色的合规性和同质性，以及在最低温度下高沉积速率的IC PECVD，促进了混合多层水分屏障在一个反应​​堆中的沉积。

由于不需要处理，将节省处理时间并防止污染。THGOT发生在2-4^Th9月在德国莱比锡。那是10^Th这个受欢迎的会议周年纪念日，许多来自行业和科学的访客参加了各种演讲和海报会议。亚博老虎机网登录

Sentech与展位一起参加了活动，并引入了新开发的用于PEALD和IC PECVD“ SIPAR”的组合系统，用于沉积水分屏障。“对ALD的兴趣在过去几年中已经大大增长，这可以从Thgot的越来越多的演讲中可以看出。” Sentech的等离子体专家之一Gargouri博士恢复。如果您对我们新的IC PECVD和PEALD System Sipar的更多详细信息感兴趣，请在这里与我们联系。