picosun oy这是全球工业高质量原子层沉积（ALD）设备的领先制造商，现在为铜和氧化铜提供了新的工业ALD工艺。app亚博体育
只有ALD才能作为薄膜沉积方法提供的最高均匀性和相同性的超薄铜膜是当今和未来的微电子和MEMS（微电机械传感器）制造中的关键元素。例如，需要铜金属化和种子层。微处理器和3D集成的微电源组件作为互连。另一方面，氧化物氧化物（NB2O5）是由于其硬度和耐化学性而造成的湿气和腐蚀保护的理想选择。
现在，Picosun最新一代的前体源设计实现了现在开发的低温（低于150 OC）的热ALD过程。第二代PICOHOT™300源系统允许较低的蒸发温度，即使在低底物温度下，反应室中前体蒸气的有效，均匀的分布也是如此。
“我们针对铜和氧化物的新工艺再次显示了Picosun前体源设计的出色质量，还可以在塑料和压电元素等热敏感材料上进行真正的ALD处理。亚博网站下载Picosun董事总经理Juhana Kostamo表示。
Picosun的最高水平ALD薄膜技术使新颖的，尖端的涂料解决方案使工业飞跃到未来，并在该领域拥有四十年的连续，开创性的专业知识。如今，Picosun™ALD系统正在全球众多著名行业的日常生产中使用。Picosun总部位于芬兰，在美国，中国和新加坡设有子公司，以及全球销售和支持网络。