来自西安北大学，已经在低温下证明了石墨烯沉积，使用Picoplasma™远程等离子体源系统使其成为可能picosun oy，著名的原子层沉积（ALD）系统制造商。
这项研究由Xi’an Jiotong大学的Zuo-Guang Ye教授和Wei Ren教授领导，不仅扩展了石墨烯的广泛应用，而且还扩展了ALD的应用。
在半导体行业中，ALD在石墨烯制造中的使用，这是一种公认的广泛使用的技术，使石墨烯能够在现代微型和纳米电子制造过程中取得突破。
这Juhana Kostamo Picosun董事总经理指出，突破需要高级，先进的技术和ALD系统制造和过程开发的专业知识。
Picosun为这样一个事实而感到自豪，即在ALD系统设计领域40年导致了石墨烯制造的进步，从而为未来的ICT，空间，医疗和消费电子产品提供了真正的，有形的产品。
我们已经使用了Picosun的高级PEALD（等离子体增强ALD）系统来证明原子层沉积是一种可为高质量石墨烯增长的新技术。更重要的是，这项工作证明了将石墨烯集成到可能的微电器设备应用中的半导体技术中的可能性。
习近平大学电子材料研究实验室主任Wei Ren教授亚博网站下载
picosun提供最先进的ALD薄膜技术，并通过提供创新的，出色的涂料解决方案来帮助行业发展。目前，Picosun™ALD系统定期在全球多个主要行业中使用。这家总部位于芬兰的公司在中国，美国和新加坡拥有子公司以及全球销售和支持网络。