真空处理是各种化学、冶金和电子程序的基本成分,包括吸附法、化学蒸发沉降法、表层蚀刻法和蒸发涂层,通过多种低压机制操作需求
上头隐藏HMTresidual气体分析器(RGA)设想提供单片压力计运行从超高吸尘器到毫托尔全真空谱段以提供流程气趋势分析、真空背景诊断和泄漏检测积分双检测器使法拉第检测器高压监控和电子倍增检测器低压UHV监控,并给予全常规RGA规范,部分压力检测下降2x10E-13mbar并总动态范围超过10年
选择进程模式即时设置高压操作分析参数,系统敏感度优化特定进程压力选择RGA模式自动重置系统优化UHV敏感度,激活系统电子乘法操作并启动超压保护功能多单元可操作互联网链路,自动中转启动过程控制可配置成集成TTL线
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