Sentech仪器是用于蚀刻和沉积的等离子体过程技术设备的领先供应商，以及基于椭圆测量法的薄膜计量仪器。app亚博体育
SENTECH Instruments开发了高级PTSA（平面三螺旋天线）电感耦合等离子体来源，该等离子体源提供了ICP等离子体蚀刻器中使用的核心等离子体技术，用于低损伤和高速蚀刻蚀刻，并在ICPECVD低温沉积系统中使用。直到最近，Sentech仪器才通过ALD和等离子体增强的ALD系统扩展了其ICPECVD处理，以便能够沉积高度保形和密集的薄金属氧化物和金属层。
中国的习近平大学购买了Sentech的创新原子层沉积（ALD）系统之一。ALD系统配备了Sentech原位激光椭圆计，它代表了监视和开发新的ALD过程的独特工具。Sentech原位激光椭圆机在高级实时增长过程监控中使用的结果提供了出色的效果，尤其是因为这两种工具都是由Sentech仪器制造的。
习近平中集成到ALD系统中的原位椭圆机使用户能够通过高空分辨率在处理过程中测量沉积层的膜厚度和折射率。ALD系统的配置用于热处理和等离子体增强的处理，可以将其纳入而无需手动干扰的食谱中。通过沉积氧化铝（AL2O3）来证明这两个过程。
习近平大学的联系人是Ji Xing夫人，纳米材料可再生能源中心的技术助理。她将在将来监督与ALD系统有关的所有实验和研究活动。安装后，在深入的技术培训和Sentech技术服务的加工介绍之后，Xing夫人能够完美地操作ALD和椭圆机。
引用Xing夫人：
“我们对Sentech技术服务的流畅专业工作感到非常满意，而Sentech满足了我们对ALD系统及其椭圆机的所有期望。
所有流程的出色表现激发了西安大学为其新的ALD系统和Sentech订购其他流程，很高兴提供申请支持，我们期待着进一步的合作！”
关于Sentech仪器
Sentech Instruments GmbH开发，制造和销售用于薄膜计量学的高级质量仪器（反射计，椭圆表，光谱椭圆计）和等离子体过程技术（等离子体蚀刻，等离子体沉积系统）。
等离子工艺技术设备用于半导体和微型系统应用中的高精度app亚博体育蚀刻和层沉积。Sentech Instruments在全球范围内提供其产品和服务。