应用材料公司(A亚博网站下载pplied Materials, Inc.)今天宣布了生产大尺寸超高清(UHD) LCD和OLED显示屏的新技术系统，以满足消费者对更大屏幕性能、清晰度、颜色和亮度的需求。
应用AKT-PiVot®55K DT PVD、Applied AKT- pivot 25K DT PVD和Applied AKT 55KS PECVD系统扩展了Applied在金属氧化物(MO)薄膜和创建高分辨率显示器所需的更小、更快的薄膜晶体管(TFTs)技术方面的领导地位。通过精密材料工程和生产力创新，这些P亚博网站下载VD和PECVD系统提供了一个优化的、具有成本效益的解决方案，用于未来的MO-enabled显示器的量产。
基于MO的TFT帮助使低功耗，高分辨率智能手机和平板电脑以及一些OLED电视技术。未来的4克电视也有望采用MO TFT。应用的PVD和CVD系统的均匀性和粒子控制有助于客户以高产大规模生产提供这些新的展示技术。
“我们的新PVD和PECVD系统将通过使客户能够使用经过验证的技术转向Mo材料，”Ali Salehpour，高级副总裁兼总经理，应用全球服务和增长市场。亚博网站下载“我们与客户密切合作，开发这些解决方案，以解决其批判性统一性，粒子控制和稳定性挑战，清除主要实施障碍，特别是在OLED方面。我们可以通过将这些解决方案扩展到不同的基板来支持客户的各种产品策略大小，允许为移动设备制造大面积电视或节能屏幕的多种技术路径。“
Applied's AKT-PiVot DT PVD systems (55K for 2200mm x 2500mm and 25K for 1500mm x 1850mm substrates) extend the company's proprietary rotary cathode array technology to deliver proven highly uniform, homogeneous and low-defect, active-layer deposition for MO (e.g. IGZO), as well as interconnect metals and pixel electrodes. Enabling high TFT stability with uniform PiVot-deposited IGZO films is critical for display quality, and is key to realizing MO backplanes for small- and large-area OLEDs. As TFTs get smaller and substrates get larger, the impact of uniformity and particles on yield is significantly magnified. The systems' self-cleaning rotary targets with directional plasma control deliver notably fewer defects and outstanding uniformity compared to conventional planar targets. To effectively provide this high-value performance cost, the system's independent dual processing tracks on a single platform provide high production capacity in a small footprint. The deposition of robust, mura-free IGZO films, combined with uniform, low defect metals, pixel electrodes and new integrated passivation layers (AlOx), allows for unprecedented technical performance and flexibility.
应用的新AKT 55KS PECVD系统将市场领先的Precision PECVD技术带到2200mm x 2500mm尺寸的基板上。它沉积具有新的先进质量氧化硅（SiO2）工艺的Mo晶体管的介质层界面，可最大限度地减少氢杂质，以改善长期晶体管稳定性并优化屏幕性能。通过保持均匀性的性能和颗粒对照所需的均匀性能和颗粒控制，AKT-55KS PECVD系统提供了一种快速，易于实现的高质量Mo显示器。
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