XEI科学公司,厂家的EVACTRON®De-Contaminator™等离子体清洗系统对电子显微镜和其他真空室,被授予美国专利8月13日,2013年,一种改进的方法和仪器对氧自由基的生产中使用清洁的高真空电子显微镜等仪器。
XEI很高兴地宣布，该公司已获得一项新的美国专利# US8507879B2，该专利描述了一种新的氧化清洗方法和系统，用于电子显微镜和其他高真空仪器，使用氧自由基源中的紫外激发。
该新方法和设备包括一个真空紫外光源，它被放置在一个辐照室中，在没有紫外线的情况下，它光解离用于下游清洗室或样品的氧气。XEI的创始人和专利持有人罗纳德·韦恩(Ronald Vane)说，这项新专利是XEI正在进行的研究的结果，该研究旨在为电子显微镜和其他高真空仪器找到改进的清洁方法。这项专利研究提供了一个可选的途径，以补充我们的工作，以改进XEI的vactron®RF等离子体清洗系统。
XEI在全球销售了1800多套真空系统，使用电子显微镜、FIBs和其他真空样品室等仪器解决了许多不同环境中的污染问题。详情请浏览我们的网站，www.evactron.com．
关于谢科学股份有限公司
XEI科学公司。在1999年发明了真空除污器，作为第一个等离子清洗机，使用下游清洗过程从电子显微镜中去除碳。专有的等离子体源使用空气产生氧自由基氧化碳化合物，由泵去除。无碳真空产生最高质量的图像和分析结果从sem和其他真空分析仪器。XEI的创新包括独特的射频等离子体发生器，专利射频电极，易于启动程序等离子体清洗。所有XEI产品均提供5年保修期，并符合CE、NRTL和Semi-S2安全标准。XEI提供各种各样的vactron®去污系统，以满足用户的需求和>1800安装在世界各地。
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