牛津仪器等离子体技术刚刚宣布，随着PlasmaPro®1000 Astrea蚀刻系统的推出，批量蚀刻技术有了新的发展。PlasmaPro®1000 Astrea蚀刻系统是一种用于PSS、GaN和AlGaInP的大批量蚀刻解决方案，将为HBLED生产制造商提供高吞吐量和行业领先的拥有成本（CoO）。
牛津仪器HBLED产品经理Mark Dineen博士将在本周于上海举行的LED中国展上向与会代表介绍这款新系统。
“PlasmaPro1000 Astrea是我们的最终批量蚀刻工具,建立在超过15年的经验作为主要供应商子行业”,马克Dineen博士说,牛津仪器等离子技术的子产品经理,“今天的hbl制造商理由要求高收益,高吞吐量,优化设备质量和低拥有成本。我们的PlasmaPro1000 Astrea大批量蚀刻系统为所有这些问题提供解决方案。”
该系统的晶片批量尺寸从55 x 2”到3 x 8”，特别针对HBLED材料所需的苛刻化学物质而设计。亚博网站下载PlasmaPro1000 Astrea提供低损伤、高成品率的工艺，确保客户芯片的最大光输出。这是一个高度可配置的系统，流程室可作为独立模块或集群配置，可在一个可支持最多三个流程模块的四面集群工具上使用。
旨在确保高系统可用性和易用性的可服务性，关键的系统功能和好处包括:
- 行业领先的>690mm高均匀等离子体大面积源
- 490mm电极提供无与伦比的吞吐量批次大小55x2 "， 14x4 "， 7x6 "和3x8 "
- 高导泵系统
- 双入口气体入口，便于过程调整
- 为硅片冷却提供最大夹持
- z型运动电极，达到终极均匀性
- 可靠的硬件和易维护性，实现卓越的正常运行时间
牛津仪器等离子技术公司总经理Dan Ayres评论道：“这一先进创新的系统是为了满足HBLED生产用户的严格需求而开发的，他们不仅需要最新的技术创新，还需要我们公司提供的卓越客户支持。
作为等离子蚀刻和沉积系统的行业领先制造商，牛津仪器公司不断努力改进和发展其系统，以提供最终工具。作为领先的等离子工具制造商，我们拥有超过6000种工艺配方的独家图书馆，在25年的时间里，我们为客户提供了一款具有全面、市场领先备份的优秀产品。”