来自Extrel为一个系统提供了理想的电离技术，用于纯气体分析和一般气体分析。纯气体中杂质的痕量分析是半导体和其他高科技工业应用的开发和实施的关键能力。
新技术要求更高的散装气体纯度标准，纯化系统的性能提高，并在输送点验证散装气体纯度。
可以为电子冲击电离（EI）和大气压力电离（API）技术配置VERASPEC迹线，从而消除了对两个系统的需求并显着降低了总体费用。基本系统利用封闭的源电子冲击电离或可靠的DC电晕放电大气压电离源。直流电晕放电源是一种化学或软电离源，是监测PPB和PPT范围内分子的理想选择。
标准EI源在PPB范围内具有检测限，而膜引入质谱（MIMS）可以为某些组件提供子PPB检测限。VeraSpec Trace System使用19mm的Tri-Filter四极杆，其质量范围从1 AMU开始，最高为4000 AMU，也可以在MS/MS配置中使用。