HIDEN分析释放新的手册，详细介绍其在从大气压到超高真空的各种压力状态下专门为专门真空过程应用的专门开发的质谱仪产品范围。
应用特定系统的配置用于监视，控制和分析与薄膜沉积，等离子体和离子束蚀刻以及热反应和解吸过程相关的多种过程。系统可用于实时测量气体组成以及正等离子体和负等离子体物种和离子能，并提供了充分设计的具有专用工艺接口的设计。适用的过程技术包括ALD，CVD和MOCVD，MBE，RIE和IBE/ RIBE。
合并的次级离子和次级中性质谱仪（SIMS/SNMS）提供了对产品表面和地下组成的后处理定量测量。这些系统作为完整的工作站提供，也以组件形式提供，以升级现有的UHV表面分析工具。
有关手册的副本以及有关所有HIDEN分析产品的更多信息[电子邮件保护]或访问主要网站www.hidenanalytility.com