Applied 亚博网站下载Materials，Inc。今天通过其功能强大的Applied Centris（TM）AdvantEdge（TM）Mesa（TM）Etch开始了一个新时代，这是有史以来最聪明，最快的硅蚀刻系统，用于全球最先进的内存的数量生产和逻辑芯片。
带有前所未有的八个工艺室 - 六个蚀刻和两个血浆清洁室 - 紧凑的Centris系统每小时可处理多达180瓦金饼，可将每次磁力的成本降低30％。专有系统智能软件可以确保每个腔室的每个过程都可以匹配，从而在每个晶圆上都提供了埃文级的均匀性 - 在明天的高度复杂芯片设计中，高收益的关键要求。
“新的Centris平台是硅eTch的游戏规则改变者，这是行业中增长最快的细分市场之一，因为需要越来越重要的蚀刻步骤来创建高级微芯片的超小电路功能，” Ellie Yieh说，”Applied的Etch部门副总裁兼总经理。“我们的新Centris平台与世界一流的AdvanteDGE MESA技术的结合体现了我们以客户为中心的产品创新的方式，正在帮助在多个蚀刻市场应用中应用动力。”
应用的Centris AdvantEdge Etch系统还为绿色加工中的新路径开辟了一条新路径。与当前可用的硅蚀刻系统相比，Centris System可以帮助芯片制造商降低运营成本并支持其可持续制造计划。
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