UHV温度程序解析Hiden

发自隐藏分析2010年11月2日

新建TPD工作站隐藏分析完全交接站UHV温度编程解吸研究并适合质量控制和研究应用应用技术包括光电学、冶金学和半导体和薄膜研究

采样加热级完全可编程到1000摄氏度并安装在一个不锈钢套接线驱动器内,以精确定位样本接近质谱计分析器系统特征为快速3F/PIC四倍加脉冲离子计检测

样本对分析器近距离确保高采集效率并实现样本尺寸仅为1sq.cm的例行操作综合HidenTPD热分析软件提供对实验协议的全面控制,包括样本温度、分析器参数和数据采集与显示TPD分析例程包括峰值集成和峰值反变换,3D实时数据视图显示物种随温度和时间演化

系统完全UHV兼容性快速样本锁和易滑动磁转机制实现最终真空完整性正样定位直接接通横向加热器表面,由三大视图端和高强度开导器辅助热电偶直接接触样本以获取正热控制,内水冷热屏抑制因光热而去气

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Hiden剖析2019年2月10日UHV温度编程解吸研究转接法HidenAZOM2021年11月24日检索网站s://www.washintong.com/news.aspx?newsID=25552
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