应用材料亚博网站下载今天推出了新的应用Centura利乐X先进十字线蚀刻系统——唯一的系统能够腐蚀客户最具挑战性的设备所需的光掩模层22纳米。
扩大的功能应用的行业标准四第三平台,Tetra X打破了2 nm临界尺寸均匀性(CDU)屏障在所有特征尺寸,提供关键的面具的准确性,可以使面具制造商超过顾客的严格pattern-to-specification要求所有设备类型。
应用材料的新Ce亚博网站下载ntura利乐X面具腐蚀是唯一的系统能够腐蚀模式所需的光掩模半导体制造商的最关键设备层22纳米。(照片:业务线)
“下一代光刻技术的巨大需求模式的准确性是至关重要的面具,“Ajay Kumar说,副总裁和总经理应用的面具和TSV1蚀刻产品部门。“只有Tetra X系统提供必要的技术来实现这一目标的准确性,使芯片制造商优化光刻过程能力的最高执行记忆和逻辑芯片。这个最先进的系统,已能胜任22纳米生产领先面具店,表明了我们继续致力于为光掩模的客户提供世界级的蚀刻技术。”
X Tetra系统的一致性要求的性能独特使光刻分辨率增强double-patterning和source-mask优化(SMO)技术通过提供高度统一,线性特性腐蚀在所有的大小和模式密度,同时保持几乎为零defectivity。Tetra X系统有一个广泛的系统改进,包括专利、实时过程监控技术努力使下一代面具,不透明MoSi2和石英腐蚀过程用于制造先进的二进制和相移光掩模。
应用的Tetra系统已经被掩盖全球制造商使用腐蚀绝大多数高端面具在过去五年中,包括几乎所有32 nm节点和EUVL3发展面具。欲了解更多信息,请访问www.appliedmaterials.com/pro亚博网站下载ducts/photomask_etch_4.html。
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