Applied 亚博网站下载Materials，Inc。今天宣布了其Applied Aera3™面膜检查系统，使PhotoMask和ChIP制造商能够使用其经过验证的空中成像技术来应对22NM的所有光罩的最关键的缺陷检测挑战。
在开创性应用AERA2系统的基础上，新系统将检测灵敏度提高了50％，从而可以检查较小的电路功能，同时根据其对膜的影响提高其独特的掩模缺陷能力。此关键好处使AERA3系统成为最快，最准确的面具资格解决方案。
应用材料引入了其亚博网站下载AERA3系统，用于使用经过验证的空中成像技术检查高级22NM和EUV光罩。
当今的高级光刻使用了双重图案（DP）和源掩盖优化（SMO）技术，其中掩码上的功能几乎与印刷晶圆上的最终图案无相似之处。常规的高分辨率检查系统使用模型来模拟晶圆上投影的掩码图像，并难以确定哪些缺陷很重要。AERA3系统的增强空中成像技术模拟了光刻扫描仪的光学系统，使用户可以立即查看缺陷会引起问题或可以安全地忽略。
AERA3系统引入了多种创新，这些创新结合起来以提高检测灵敏度，包括更强大的光源，较小的像素尺寸，复杂的照明形状和极化。此外，AERA3是第一个能够使用照明形状检查极端紫外线光刻（EUVL）掩模的系统。这种增强的技术，再加上超小为67nm像素的大小，使可选的EUVL模块可以检测到小至12nm的缺陷，从而使AERA3系统成为支持客户探索EUVL开发的理想工具。
Applied Process Diagnostics and Control Division副总裁兼总经理Ronen Benzion说：“ AERA3系统的基准功能是我们与世界各地的尖头面具商店进行密切合作的结果。”“该系统介绍了下一代口罩的所有检查应用程序，使其成为快速限定新面具并随着时间跟踪面具质量的必不可少的工具，从而为整个光刻细胞带来了生产力的提高。”
应用材料将在20亚博网站下载10年SPIE摄影技术会议上展示AERA3系统，并在加利福尼亚州蒙特雷举行。
来源：http://www.applied亚博网站下载materials.com/