应用材料公司今天亚博网站下载发布了其新的Centura(R) AdvantEdge(TM) Mesa(TM)系统，用于在下一代DRAM、Flash和逻辑器件中创建具有埃级精度的纳米级电路特性。
由于硅蚀刻技术的这一关键突破，应用公司对AdvantEdge台面系统的需求非常迅速。在过去的三个月里，已经有超过60个腔室交付给客户，它们是32纳米芯片生产和22纳米芯片开发的记录工具。
AdvantEdge台面蚀刻系统
应用公司蚀刻事业部副总裁兼总经理Ellie Yieh表示:“我们的客户对AdvantEdge Mesa系统的热情采用表明，该行业对能够制造高密度存储设备和节能微处理器的蚀刻技术的强烈需求尚未得到满足。“Mesa系统使芯片制造商不再需要补偿系统的不均匀性限制，从而可以成为帮助客户缩小电路特性、控制泄漏电流并实现未来智能移动设备所需的高产量的关键工具。”
AdvantEdge Mesa系统的关键是其新型电感耦合等离子体(ICP)源设计，消除了以往所有基于ICP系统性能有限的“蚀刻特征”。Mesa的ICP源提供了真正平坦、均匀的轮廓，使光刻模式精确转移到晶圆的极端边缘，显著提高了模具成品率。针对关键浅沟槽隔离、埋入位字线和双图形硅蚀刻应用，AdvantEdge Mesa系统的最佳性能提供了1%的蚀刻深度非均匀性、亚纳米CD均匀性和最高的可用晶圆吞吐量。
应用公司现有的AdvantEdge系统的大量安装基础可以使用Mesa技术进行升级，为设备制造商提供了一个使用经过验证的平台的多代设备平滑升级路径。
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