希登分析宣布新的MAXIM SIMS/SNMS工作站，该工作站结合了二次离子和溅射中性质谱法的高灵敏度表面测量，均在集成PC控制下。
新SIMS工作站
该系统适用于静态和动态测量，并完全符合特高压，可选择氧、氩和铯离子源用于宽波束应用和20微米光斑大小的精细聚焦操作。该工作站配置为可接受不同类型的样品，并与内置的元素表面成像程序一起，提供表面成分和/或深度剖面特征的定量分析。
高透射质谱仪监测正离子和负离子，积分电子轰击离子源安装在样品表面，有效地提供了溅射中性的预电离。质量范围为1000 amu，此外，该系统对最低分子量的硼、铍和锂到单原子氢提供了特殊的灵敏度。
PC接口控制数据采集门控和扫描区域光栅，以集成物种和扫描坐标，应用于Hiden ESM Labview表面成像程序。完整的光栅区域可由用户定义，最大可达4mm x 4mm，数据采集从第二个内部定义区域，以避免火山口侧壁干扰。
该系统包括快速进入负载锁定和样品传输台、电子束电荷补偿、CCD摄像机和烘烤外壳。主真空室是多端口的，完全可接近，用于安装附加附件和提供系统配置选项。主室、离子枪和样品负载锁使用独立涡轮分子泵，以确保全超高压运行，系统基础压力小于10E-9 mbar。