半导体厂商缺陷分析平台获奖

应用材料,Inc亚博网站下载。今天宣布,其应用的SEMVision G4缺陷分析平台被半导体国际(SI)杂志授予著名编辑选择最佳产品奖。创新技术和经生产验证的性能的成功结合,使SEMVision G4平台成为32nm设计规则和其他设计规则的首选缺陷审查工具。

创新的技术和经生产验证的性能使应用的SEMVision G4平台成为32nm设计规则和其他设计规则的首选缺陷审查工具(图片来源:商报)

“编辑选择最佳产品奖项计划承认制造环境中经过验证的产品,材料和服务,”劳拉·彼得斯表示,“半导体国际国际议长”。亚博网站下载“在评估过程中,SI的编辑认为产品根据现场实际客户的反馈,并且只有最强烈推荐的产品每年都会得到尊重。”

应用材料硅系统集团高级副总裁兼总经理汤姆圣丹尼斯(tomst.Dennis)表示:“该奖项表彰了应用公司SEMVision技术对半导体行业的巨大影响。”SEMVision G4系统卓越的图像质量和先进的材料分析能力是帮助芯片制造商了解和减轻产品缺陷根源的有力工具。”亚博网站下载

应用的缺陷审查SemVision系统专为最先进的审查应用而设计,能够自动缺陷重新检测(ADR)和自动缺陷分类(ADC)的关键缺陷。SemVision G4技术的主要特征是其新的扫描电子显微镜(SEM)柱和增强的多透视SEM成像系统,可在一个缺陷的基准审查率下提供最​​先进的2NM物理分辨率,以实现无与伦比的图像质量 -每秒。

应用的半宣传系统在1998年开创了自动缺陷审查,彻底改变了Fabs检测和分析缺陷信息的方式。在过去的十年中,SemVision技术已经为行业提供了能力,在全球客户网站上安装了超过700个系统。这是第三届Applied的SemVision技术奖,从2000年的第一个半保护系统开始,并在2005年继续使用SemVision G2 Fib。

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