2009年7月14日
ASML (Nasdaq:ASML)(Amsterdam:ASML)并赛默公司Nasdaq:CYMI正式宣布世界第一个完全集成激光等离子体极超紫外线线线源运入ASMLCymerEUV源码是两公司多单元采购协议的首例,目前正在ASMLVdhoven总部安装,支持下一代EUV平面扫描机集成测试
Cymer宣布创下75瓦版EUV接触功率(全死接触)创下记录里程碑,并期望在本季度内向100瓦版放大功率,使扫描器通过量制造使用ASMLEEV技术每小时60西元/12英寸计划一年后从ASML首次运出能产生EV扫描仪源概念可逐步提升性能水平,与完全融入ASML扫描仪时每小时接触100多片相匹配
EUV是一种新平面法,使用比当前平面系统短15倍波长,使半导体缩放EUV支持摩尔法-向强效节能但可支付芯片趋势-至少再持续10年
赛默公司首席执行官Bob Akins表示 :提供高分辨率高通量制造能力, 生产精密ICs, 关键维度低于22Nm,未来几年内EUV平面图模式芯片比今天强数百倍Akins
Cymer和ASML致力于为全局芯片制作者实现EUV平面图制作,并加进ASML产品技术执行副总裁Martin van den Brinkapp亚博体育EUV是未来几代更强力半导体最经济合算量平面技术,革命型新架构为芯片制造者提供技术,至少将半导体缩水十年
LPP EUV映射源产生13.5纳米波长(人眼看不见)的光线显示技术范式从今日深紫外色解射源的重大改变LPPEV源中微粒熔锡通过吸尘室射出并逐个跟踪和蒸发脉冲高功率红外激光-频率为每秒5万次-生成高温锡等离子点源13.5纳米波长光大型EUV镜像收集并引导光线射入扫描器中,通过图片映射并投射使用复杂图像还原镜集投射光敏锐二维线程
ASML从三大洲内存逻辑客户收到五大EUV平面系统订单,从2010年开始交付