2004年7月13日
3m今天，用于氧化物化学机械平面化（CMP），推出了创新的高性能钻石护发素-3M钻石护发素A4-55，该卫生型护发素（CMP）强调了3M对质量的承诺，同时提供了提高的所有权成本。
“ 3M致力于半导体行业，并专注于确定的客户和行业需求。新的A4-55 PAD护发素是我们如何与客户合作以证明这一承诺的另一个例子，”业务部门经理Eric Funkenbusch说。3m。
新型3M Diamond Pad护发素A4-55采用轻质聚碳酸酯备份制造，提供了较低的所有权。像所有3M钻石垫护发仪一样，它提供了高质量的，一致的钻石性能，并保留出色的钻石。3M A4-55还优化了护发素的侵略性，以延长垫子寿命。此外，新型3M PAD护发素提供了极其平坦的活性钻石区域，可降低不均匀性和出色的垫平面性以及一致的碎屑去除。专用聚合物底物增强了耐腐蚀性。3M A4-55的升级包装还有助于提供出色的污染控制和清洁室的兼容性。
3M A4-55是3M的3M钻石垫护发仪系列的最新补充，可满足各种客户对各种制造平台的需求。整个生产线具有机械和化学键，以使钻石完好无损，以保持出色的钻石保留 - 减少了宏观捕捉的可能性 - 并提高了晶圆产量。
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