PANalytical推出新范围的x射线计量解决方案在2008年半导体欧罗巴

PANalytical(荷兰的阿尔梅罗)将推出新产品和展示其全方位的创新的x射线计量解决方案在半导体欧罗巴布斯# 144 2008年,10月7号到9号,德国斯图加特展会中心。

这个总理事件会看到PANalytical关注过程控制工具,飞行员制造和研发半导体、微机电系统、太阳能电池和数据存储类型的应用程序。PANalytical是独特的在发展中“骨干”分析工具——一种方法提供相关的数据和可转让的材料或产品从研发通过试点生产卷线。

PANalytical展台上的亮点将是欧洲推出一个更新版本的公司SuperQ 4.0薄膜包,用于PW2830波长色散光谱仪系统和Semyos micro-XRF晶圆分析仪。这证明软件的厚度、成分和一致性分析薄膜现在包括增强的基本参数的软件(FP多)。最好的保证性能在一系列应用程序,与16复杂层次的分析和设备来测量和跟踪晶片通过沉积步骤栈完成。

PANalytical的X射线衍射(XRD)范围将由X 'Pert PRO MRD MRD XL, III-V宝贵的工具,和其他类型的太阳能电池。X 'Pert职业家庭是最灵活的XRD的解决方案用于薄膜外延和多晶快速分析的要求和设计范围广泛的结构属性,包括膜厚度、晶格不匹配,表面和界面粗糙度、缺陷密度、域大小和更多。独特的前缀模块允许重新配置,而不需要重新校准。

半导体制造商需要严格流程监控整个生产链,PANalytical的PW2830光谱仪晶片分析仪符合所有现行的300毫米标准。半导体和数据存储层成分和厚度;掺杂剂浓度以及表面均匀性可以决定在300 mm晶圆在一个完全自动化的环境。

最新解决方案产品x射线分析薄膜,Semyos是一个高性能、能量色散光谱仪测量现场的计量工具不到23µm应用(全宽半最大值)。这使生产晶片直接测量高达300毫米。系统涵盖了多种应用,包括:描述包含元素的电影从艾尔开始scribeline计量领域,接受/拒绝的评估复杂的栈,金属化的控制过程,分析障碍的电影,描述的读/写磁头和磁介质薄膜。

告诉我们你的想法

你有检查、更新或任何你想添加这个新闻吗?

离开你的反馈
你的评论类型
提交