2004年5月6日
美国国家标准技术研究所（NIST）将为一家合资企业的资助做出贡献分子烙印。该合资企业将在关键的半导体路线图节点上发展纳米印刷版画。
其他合资伙伴包括KLA-Tencor，Photronics，Motorola Labs和德克萨斯大学奥斯汀分校。他们与分子烙印一起将贡献1,910万美元的成本分配，而NIST又投入了1,760万美元。
项目的目标是建立与步骤和闪光印记光刻（S-FIL™）流程相关的必要技术基础架构，包括系统，材料和模板（蒙版）开发。亚博网站下载这项为期三年的项目将集中于密集的接触层，这对于硅整合电路制造至关重要。
该技术将满足苛刻的硅CMOS光刻要求。
有关更多信息半导体， 点击这里。