Angstrom Engineering的物理气相沉积平台允许不可思议的过程和应用的多功能性。
- Nexdep: 100毫米× 100毫米基板标准。1 - 8个来源。
- Amod: 150毫米× 150毫米基板标准。1 - 10个来源。
- EvoVac: 150毫米× 150毫米基板标准。更多的源的空间和增加源到基材的投掷距离)。1 - 14个来源。
*注:可适应较大的基材尺寸。请联系我们进行讨论。
其中一个薄膜沉积的工作马应该完全适合您的工艺要求。我们的应用工程团队将与您密切合作，以确定哪些源、衬底处理和过程增强技术将与您将要做的工作最相关。
所有三个都可以容纳溅射，电子束和热电阻源，以及用于清洁和薄膜增强的一系列离子源。
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标准的关键特性
- 认识集成控制软件是标准的，并拥有在整个过程中创建和控制配方的能力，从预沉积，通过层控制(包括前所未有的低速率稳定)，阶段控制，气体和压力控制，自动化
- 定制设计，以满足您的工艺要求
- 支持多种PVD工艺
- 顺序或共沉积
- 每个系统都有安装和多用户现场培训
- 我们详细的培训手册教新用户如何操作和维护设备app亚博体育
- 用户安全是最重要的功能，如切断电源时，舱室打开
- 埃著名的服务。我们支持我们的产品。
- 24小时响应保证：如果您打电话或发送电子邮件，我们将在24小时内回复，以便您可以获得所需的支持
可选特性
- 手套箱集成
- 铝或不锈钢腔体可供选择
- 国际输入电压可用
- 高真空或超高真空配置
- 加热，冷却和偏置阶段
- 行星和圆顶固定装置
- 负载锁和半自动化的基板和掩膜处理
- 辊对辊加工
- 用于创建复杂纳米结构和图像涂层的可变角度阶段
- 还可以进行进一步的定制。当与我们的应用程序工程团队交谈时，与他们讨论所有的需求。
用户推荐
在杜邦显示器公司(DuPont Displays)， OLED显示器正在制造用于各种潜在应用的产品。虽然溶液处理的显示器是目标，各种蒸发oled也被研究用于比较和控制。
在这方面，Angstrom Engineering的多源EvoVac蒸发器是非常宝贵的。可以实现很好的膜均匀性和速率控制。从2或3个来源共同沉积是可能的，并且系统设计有利于在薄膜内和从运行到运行的低成分变异性。原位掩膜的变化是可能的，允许多层图案涂层没有真空中断。
将不同的气相沉积技术集成到一个腔室中对研究特别有用。
Shiva Prakash博士，Goleta，美国，杜邦显示器
我们有几个实验室，拥有来自30多个供应商的超过200万美元的设备，并且Angstrom Engiapp亚博体育neering拥有最好的客户服务。
阮博士，加州大学圣巴巴拉分校