瓦弗二百元

快速、精确和完全设备化:Wafer终端控制解决方案

wafer XRD200表示超快高精度自动化系统,设计用于水晶方向和瓦法几何参数的rafer排序装配多选项增强功能

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概述

Wafer XRD200全自动化高速X-Ray反射平台变换rafer制作和研究

提供关键参数数据,如晶面向性能、阻抗性、几何特征(波段和平面)、距离测量等,更多都分秒数解Wafer XRD200实现无缝整合

特征与福利

超快扫描技术

方法只需旋转一个圆形收集所有基本数据以综合取向判定高精度测量时间极短 典型范围几秒

全自动化处理排序

设计提高用户吞吐量和生产率Wafer XRD200全自动化处理整理有了详细数据传输工具,该设备便成为质量控制流程中强高效分量

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易连通性

Wafer XRD200强自动化与MES兼容,如SECS/GEM,允许它无缝融入新进程或现有进程

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高精度深度深入观察

亚博网站下载以Wafer XRD200提供关键测量对素材有史无前例的了解计量方式

• 晶体定向
• 方位、深度和开角
• 直径
• 扁平位置和长度
• 阻抗性

典型标准偏差倾斜度(说明:Si100)为 < 0.003度,最小值 < 0.001度

Wafer XRD200简化并加速分析数以百计的潜在样本,包括:

• 西城
• 西元
• Quartz区域
• AlN
• Al₂O级₃(apphire)
• LINBO₃
• GAs
• BBO

密钥应用

制作处理

动态产业速度至关紧要,自动化势在必行,Wafer XRD200率先作为处理线程、排序和深入测量的强效解决方案

系统覆盖关键方面,如晶向学、光学记分和平面测定、抗冲测量以及其他基本参数见证提高生产率第一手

质量控制

亚博网站下载精确快速理解材料对有效质量控制至关重要,Wafer XRD200最突出的解决方案

使用超快Omega-Scan法,它识别单量晶取向,每年可测量达100万瓦wifer XRD200提供非匹配效率和多功能生产质量控制

亚博网站下载资料研究

忙环境不仅限于生产设置-Wafer XRD200设备精良,可在研发环境提供高通量分析

亚博网站下载可描述从Si、SiC和GaAs到QuertzLiNbO₃亚博网站下载和BBOWafer XRD200拥有多功能帮助材料研究和创新,在塑造半导体技术未来中发挥作用

规范化

出处:马尔文剖析有限公司