GD-Profile2TMHORIBA科学提供快速并发分析所有元素,包括氮、氧、氢和氯光薄薄薄膜描述和过程研究理想工具
配有RF源,可用脉冲模式操作易碎样本,GD-Profiler2TM应用范围从腐蚀研究到PVD涂层过程控制,从薄膜PV开发到LED质量控制,大学和工业研究实验室都使用它
特征学
- 源可同步获取改善脆弱样本结果亚博网站下载使用RF源码可分析常规和非常规层块和材料
- 唯一RF生成器为E级标准并优化稳定性和弹坑形状,从而实现实面分析
- 同步光学提供全光谱覆盖110至800纳米不等,例如深紫外线访问检验H、C、O、N和Cl
- 专利HDD检测提供敏感度和速度检测而不做任何折中
- HORIBA原创电荷计算保证最大光流和分辨率实现最大光灵敏度和效率
- 易取样本区间容留大量样本加载
- 联机测量侵蚀率和坑深度DIP.
- CenterLite激光指针(空域待定)精确采样加载
- 字符串QUANTUMTM软件可用表报写工具
单色器选项仅从HORIBA获取,是提高工具弹性并添加n+1功能的完美工具
图像感想:Horiba科学
规范化
亚博网站下载glow卸载源与超高速高分辨率同时光学对导波非导波和混合材料快速深度剖析
薄薄膜理想化-从纳米到数百微米并用纳米深度解析
- 亚博网站下载典型应用领域,如PV、LED制造、冶金、腐蚀研究、有机电子和微电子研究开发、材料研发、沉积过程优化、CVD、PVD、等离子涂层、Li电池和汽车等
- 测量所有感兴趣的元素(如H、O、D、Li、C、Na、N等)并使用专利高动态检测器
- UHV不需要
- 脉冲RF源码操作
- 可选单色板图像模式高动态检测全频谱记录和全弹性
- 差分双泵源 专利SEM样本准备
- 亚博网站下载专利UFS可用于聚合物和有机物超高速喷射
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- 专利DIP插件计直接联机深度测量
- 各种阳极直径和奇形样本配件
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