PlasmaPro 80牛津仪器是一个紧凑,占用空间小系统,为通用的腐蚀和沉积的解决方案提供了合适的加载。
它是用户友好的和容易网站在不影响过程质量。快速晶片装卸、适用性研究,原型和少量生产由开放启用加载设计。它允许高性能过程的帮助下改进电极冷却和杰出的衬底温度控制。
突出了
- 打开负载设计允许快速晶圆装载和卸载
- 杰出的腐蚀控制和速度的决心
- 建立半S2 / S8的标准
- 杰出的晶片温度均匀性
- 200毫米晶圆
- 低成本的所有权
应用程序
- 硬掩模沉积和蚀刻高亮度LED生产
- 优质PECVD氮化硅和二氧化硅"光子学,钝化,介电层以及其他用途
图片来源:牛津仪器等离子体技术
图片来源:牛津仪器等离子体技术
特性
- 占用空间小,简单的网站
- High-conductance径向(轴对称)泵配置,确保增强过程均匀性和利率
- 优化电极冷却-衬底温度控制
- 清晰易于访问关键部件——增强服务能力和维护
- 添加< 500毫秒数据记录的可追溯性和历史室和工艺条件
- 短背的涡轮泵,压力高抽速和杰出的基地
- 断层通过前端软件和工具诊断——快速故障诊断
- X20的控制系统,大大提高数据检索,提供更快、更可重复的匹配
- 光学发射光谱法(OES)是用于大样本或批处理端点检测的变化蚀刻副产品或活性气体物种的消耗,和室清洁端点
- 激光端点检测采用干涉法——量化腐蚀深度在透明材料反光的表面(例如,氧化物在Si)或反射计不透明的材料(如金属)来识别层边界亚博网站下载